Scienza e tecnologia del silicio a film sottile amorfo e plicristallino -- 2008: Volume 1066

Titolo originale:

Amorphous and Plycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology -- 2008: Volume 1066

Contenuto del libro:

I film sottili di silicio amorfo, nano, micro e policristallino e le leghe associate sono utilizzati in una pletora di applicazioni che spaziano dai display a matrice attiva e dalle matrici di immagini ai pannelli solari.

Queste applicazioni rendono l'elettronica a grande superficie la tecnologia dei semiconduttori in più rapida crescita oggi, spingendo i requisiti dei materiali e le prestazioni dei dispositivi verso nuovi limiti. Questo libro riunisce i ricercatori per condividere le loro competenze.

I materiali trattati comprendono silicio amorfo, nano, micro e policristallino e le loro leghe con germanio, carbonio e altri elementi. Gli argomenti trattati comprendono: la comprensione dei processi di crescita; la produzione di film di alta qualità ad alti tassi di crescita o a basse temperature; le tecniche di caratterizzazione in situ per il monitoraggio della crescita; la comprensione delle strutture amorfe, a fase mista e cristalline, insieme ai principi per aumentare la cristallinità; lo sviluppo dei processi di post-deposizione; l'identificazione delle questioni fondamentali della struttura elettronica e del trasporto dei portatori in 3D, 2D e 1D; la comprensione della metastabilità e del ruolo dell'idrogeno; l'integrazione dei dispositivi fotovoltaici e dell'elettronica a film sottile in sistemi su vetro, polimeri flessibili e altri substrati non convenzionali; la progettazione, la fabbricazione e il collaudo di dispositivi e applicazioni.