Manuale di deposizione chimica da vapore: Principi, tecnologia e applicazioni

Recensioni dei lettori

Attualmente non ci sono recensioni dei lettori. La valutazione si basa su 2 voti.

Titolo originale:

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications

Contenuto del libro:

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications fornisce informazioni sugli aspetti fondamentali della deposizione chimica da vapore. Il libro discute le applicazioni della deposizione chimica da vapore, che è una tecnologia relativamente flessibile che può adattarsi a molte variazioni.

Organizzato in 12 capitoli, il libro inizia con una panoramica dell'esame teorico del processo di deposizione chimica da vapore. Il testo descrive poi le principali reazioni chimiche e passa in rassegna i sistemi e le apparecchiature di deposizione chimica da vapore utilizzati nella ricerca e nella produzione. Altri capitoli prendono in considerazione i materiali depositati con la deposizione chimica da vapore.

Il libro discute anche le potenziali applicazioni della deposizione chimica da vapore nei semiconduttori e nell'elettronica. Il capitolo finale tratta dell'impiantazione ionica come processo principale nella fabbricazione dei semiconduttori.

Questo libro è una risorsa preziosa per scienziati, ingegneri e studenti. Anche i responsabili della produzione e del marketing e i fornitori di attrezzature, materiali e servizi troveranno utile questo libro.