Magnetismo indotto da difetti nei semiconduttori ossidi

Titolo originale:

Defect-Induced Magnetism in Oxide Semiconductors

Contenuto del libro:

Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors offre una panoramica dei più recenti progressi dell'ingegneria dei difetti per creare nuovi materiali magnetici e consentire nuove applicazioni tecnologiche.

Il libro introduce innanzitutto i meccanismi, il comportamento e la teoria del magnetismo nei semiconduttori ossidi e passa in rassegna i metodi per indurre il magnetismo in questi materiali. Vengono poi discusse strategie come la deposizione laser pulsata e lo sputtering a radiofrequenza per la crescita di materiali nanostrutturati di ossido con magnetismo indotto. Segue una rassegna dei più importanti metodi di post-deposizione per indurre il magnetismo nei semiconduttori di ossido, tra cui la ricottura, l'irradiazione ionica e l'impiantazione ionica. Vengono forniti esempi di magnetismo indotto da difetti nei semiconduttori ossidi e applicazioni selezionate.

Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors è un riferimento adatto ai ricercatori del mondo accademico e ai professionisti della ricerca e dello sviluppo industriale che operano nelle discipline della scienza e dell'ingegneria dei materiali.