I progressi della deposizione chimica da vapore

Titolo originale:

Advances in Chemical Vapor Deposition

Contenuto del libro:

Perseguire una metodologia di produzione scalabile per i materiali e farla progredire dal laboratorio all'industria è vantaggioso per le nuove applicazioni della vita quotidiana.

Da questo punto di vista, la deposizione da vapore chimico (CVD) offre un compromesso tra efficienza, controllabilità, sintonia ed eccellente ripetibilità da un ciclo all'altro nella copertura di monostrati su substrati. Pertanto, la CVD soddisfa tutti i requisiti per l'industrializzazione in praticamente tutti i settori, compresi i rivestimenti polimerici, i metalli, i sistemi di filtrazione dell'acqua, le celle solari e così via.

Il numero speciale "Advances in Chemical Vapor Deposition" è dedicato a fornire una panoramica dei più recenti risultati sperimentali e a identificare i parametri e le caratteristiche di crescita di perovskiti, TiO2, Al2O3, VO2 e V2O5 con le qualità desiderate per dispositivi potenzialmente utili.