Elettromigrazione nei metalli - Fondamenti e nano-interconnessioni (Ho Paul S. (Università del Texas Austin))

Elettromigrazione nei metalli - Fondamenti e nano-interconnessioni (Ho Paul S. (Università del Texas Austin)) (S. Ho Paul)

Titolo originale:

Electromigration in Metals - Fundamentals to Nano-Interconnects (Ho Paul S. (University of Texas Austin))

Contenuto del libro:

Imparate a valutare l'affidabilità dell'elettromigrazione e a progettare chip più resistenti grazie a questa risorsa completa.

Partendo dalla fisica fondamentale fino alle metodologie avanzate, questo libro consente al lettore di sviluppare stack di cablaggio e reti di alimentazione altamente affidabili su chip. Si tratta di un testo ideale per scienziati dei materiali e ingegneri progettisti di chip.

Altre informazioni sul libro:

ISBN:9781107032385
Autore:
Editore:
Sottotitolo:Fundamentals to Nano-Interconnects
Lingua:inglese
Rilegatura:Copertina rigida
Anno di pubblicazione:2022
Numero di pagine:430

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Ultima modifica: 2024.11.08 20:28 (GMT)