Deposizione chimica da vapore di tungsteno e siliciuri di tungsteno per applicazioni Vlsi/ULSI

Titolo originale:

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Contenuto del libro:

Questa monografia raccoglie in un unico volume la letteratura rilevante e pertinente sulla CVD a tappeto e selettiva del tungsteno (W).

Il libro fornisce al lettore il background necessario per avviare, mettere a punto e mantenere con successo un processo CVD-W in un impianto di produzione. Vengono descritti la chimica di deposizione dei materiali, le attrezzature, la tecnologia di processo, gli sviluppi e le applicazioni.